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提高線材電鍍速度的途徑

發(fā)布時(shí)間:2018/11/29 10:15:54 瀏覽量:5562 次
       最近有朋友問小編,如何提高線材電鍍的速度?近日專業(yè)線材電鍍廠家——無錫鼎亞電子的技術(shù)員和我們一起探討下提高線材電鍍的途徑有哪些?
       改進(jìn)電鍍設(shè)備
       近年來,有關(guān)線材連續(xù)電鍍設(shè)備的專利申請和授權(quán)已經(jīng)達(dá)到十多個(gè),較新的有多頭高效線材電鍍機(jī)等。由于改變直線式走線方式為復(fù)線走線方式,實(shí)現(xiàn)了在較短的電鍍槽內(nèi)達(dá)到加倍提高線材電鍍過程的時(shí)間。有的設(shè)備占地面積只有20m2,可見設(shè)備的改進(jìn)有比較明顯的效果。
       但是據(jù)使用了這類專用線材電鍍設(shè)備的用戶反映,無論是直線還是復(fù)線設(shè)備,都不能真正在設(shè)計(jì)的上限范圍內(nèi)正常工作,仍然只能在中低速和較低電流密度下工作。究其原因,這些電鍍設(shè)備所依據(jù)的原理仍然是加長線材在電鍍槽中的行程。線材在較短的距離里往返多次,雖然提高了鍍槽的利用率,但是也增加了陰極的面積,使陰、陽極面積比例失調(diào),最終影響電流密度不能提高。由于單位體積電鍍液的裝載量過大,使鍍液很容易失調(diào)。尤其有些專利將“鍍液不用循環(huán)”作為其優(yōu)點(diǎn),就更增加了鍍液的負(fù)擔(dān),從而使這類設(shè)備不能達(dá)到所設(shè)計(jì)的高速電鍍的目標(biāo)。由此可見,設(shè)備的改進(jìn)應(yīng)兼顧電鍍工藝規(guī)范,并且應(yīng)以更好地發(fā)揮電鍍工藝的效果為前提。事實(shí)證明,在一定長度的鍍槽內(nèi)實(shí)現(xiàn)高速線材電鍍是完全可能的,只要設(shè)備改進(jìn)的方案能遵循以下原則。
       ①要保持高速行走的線材在較短的電鍍行程內(nèi)獲得合格的鍍層,必須保持足夠的電流密度,而要保證較大的電流密度,導(dǎo)線截面要足夠得大,使鍍槽應(yīng)能夠持續(xù)在大電流強(qiáng)度下工作。
       ②保持大電流下持續(xù)工作除了導(dǎo)線截面要足夠大外,還要維持正確的陰、陽極比例(1:10以上),陽極的面積如果不足,將使鍍液的主鹽消耗得不到及時(shí)補(bǔ)充。
       ③為了使電鍍液能承受在大電流下的工作負(fù)荷,使陰極區(qū)的金屬離子消耗及時(shí)得到補(bǔ)充,電鍍液必須循環(huán)。且電鍍液的體積應(yīng)該是電鍍槽的數(shù)倍,通常都是在電鍍槽外另設(shè)置一個(gè)儲鍍液槽,用泵連接,向鍍槽連續(xù)提供鍍液的同時(shí),起到了加強(qiáng)攪拌的作用。
       ④作為持續(xù)工作的必要條件,應(yīng)該使鍍槽具有熱交換能力,以便在鍍液溫度過高時(shí)進(jìn)行強(qiáng)制冷卻。
       很明顯,以上各條在現(xiàn)在的技術(shù)條件下是完全可以實(shí)現(xiàn)的。因此,只要設(shè)備的改進(jìn)能滿足上述要求,就可以在較小規(guī)模的設(shè)備上獲得較高的生產(chǎn)能力。最近的一項(xiàng)有關(guān)線材連續(xù)電鍍裝置的專利反映了上述設(shè)計(jì)要點(diǎn)。其中最為重要的改進(jìn)是將國內(nèi)常用的陽極橋式連接改進(jìn)為網(wǎng)式陽極連接,使以往在電鍍過程中由于陽極溶解變小而從陽極橋上脫落而處于不導(dǎo)電的狀態(tài)得以杜絕。
       改進(jìn)電鍍工藝
       如果只有先進(jìn)的設(shè)備而沒有先進(jìn)的工藝,也很難發(fā)揮出高速電鍍的效率。因此,提高電鍍工藝的操作規(guī)范和適應(yīng)能力也是一個(gè)十分重要的課題。
       以硫酸鹽鍍鋅為例。傳統(tǒng)的硫酸鹽鍍鋅電解液的組成比較復(fù)雜,除主鹽硫酸鋅以外,還要加入硫酸鋁、硫酸鈉等導(dǎo)電鹽,再加上阿拉伯樹膠或明膠、硫脲等,成分多達(dá)五六種,電流密度范圍小,溫度要求在35℃以內(nèi)。如果采用老工藝,在新設(shè)備上也難以達(dá)到設(shè)計(jì)效果。因此,現(xiàn)在已經(jīng)普遍采用了一種專利產(chǎn)品“硫鋅-30”鍍鋅工藝。這種工藝的特點(diǎn)是成分簡單,只要主鹽硫酸鋅和pH值緩沖劑硼酸即可。加入光亮劑“硫鋅-30”,可以獲得光亮鍍層。其溫度的上限可以達(dá)到50℃,電流密度范圍也很寬,在15~150A/dm2左右。根據(jù)鍍液循環(huán)的需要,可以加入低泡型光亮劑。
       這一工藝的特點(diǎn)是鍍液成分簡單、穩(wěn)定、電流效率高、鍍層光亮。


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